目的・背景

●希土類イオンの吸収・発光を利用した各種光学材料及びデバイスの形成手法の検討を実施
●希土類イオンの有機ポリマーへの均質分散が可能
●耐光・耐熱性など耐候性に優れるシリカ系無機マトリックスへの低温で均質分散も可能
●各種基板上への発光材料の低温形成、パターン化を利用した各種応用研究へ対応

本技術の特徴

新規な各種希土類イオンのポリマー及びガラスマトリックスへの低温・均質ドープ技術を開発

１．希土類イオン含有ナノクラスタ形成技術

  ●ゾル−ゲル合成＆末端修飾
    ・組成設計、相溶化処理
  ●有機マトリックスへの均質分散
    ・高濃度ドープと透明性の両立

２．ナノクラスタ複合化技術

ＫＲＩからのご提案と期待される成果

●光導波路用部材
●光増幅用部材
  ⇒次世代コンピューティング　/　光通信・光回路への応用展開

●太陽電池用部材
  ⇒高効率化・高寿命化

●新しい応用展開
  ⇒新しい意匠の創造など